“The Grand EPMA"電子探針X射線微區(qū)分析儀 誕生

搭載場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)
將島津EPMA分析性能充分發(fā)揮預期。

從SEM觀察條件到1μA量級經驗，在各種束流條件下都擁有空間分辨率的場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀加強宣傳，將分析性能有效發(fā)揮敢於監督。

當(dāng)之無愧的“The Grand EPMA" ，zui高水準(zhǔn)的EPMA誕生互動式宣講！

超高分辨率面分析

對碳膜上Sn球放大3萬倍進(jìn)行面分析組建。即使是SE圖像（左側(cè)）上直徑只有50nm左右的Sn顆粒，在X射線圖像（右側(cè)）上也是清晰可見結構。

電子探針X射線微區(qū)分析儀可達(dá)到的zui高級別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下的二次電子分辨率深入交流研討。
（加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）

■ 二次電子圖像zui高分辨率3nm
碳噴鍍金顆粒的觀察實例。實現(xiàn)zui高分辨率
3nm（@30kV）發揮。相對較高的束流也可將電子束壓
細(xì)聚焦，更加容易的獲得高分辨率的SEM圖像適應能力。

■ 大束流超高靈敏度分析
實現(xiàn)3.0μA（加速電壓30kV）的zui大束流設施。
全束流范圍無需更換物鏡光闌。

■ zui多可同時搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無人可及的52.5°X射線取出角快速增長。
4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率要求。
zui多可同時搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。

■ 全部分析操作簡單易懂
全部操作僅靠一個鼠標(biāo)就可進(jìn)行的*可操作性通過活化。
追求「易懂」的人性化用戶界面開放以來。
搭載導(dǎo)航模式，自動指引直至生成報告防控。

超高靈敏度面分析

使用1μA束流對不銹鋼進(jìn)行5000倍的面分析組合運用。精確地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相（左側(cè)），同時也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前（右側(cè)）先進的解決方案。

1　高亮度肖特基發(fā)射體
場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大基礎，輸出更高。即可以保持其高亮度研究進展，還可提供高靈敏度分析*的穩(wěn)定大電流要素配置改革。

2　 EPMA電子光學(xué)系統(tǒng)
電子光學(xué)系統(tǒng)，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè)溝通機製，交叉點不是靠聚光透鏡形成無障礙，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上體系，具有獨立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的（日本：第4595778號）。簡單的透鏡結(jié)構(gòu)高產，既能獲得大束流註入新的動力，同時全部電流條件下設(shè)定zui合適的打開角度，將電子束壓縮到zui細(xì)核心技術體系。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的自主研發。

3　超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室新產品、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)意向。中間室與分析腔體間的氣流孔做到zui小，以控制流入中間室的氣體更加廣闊，使電子槍室始終保持著超高真空系統性，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

4　高靈敏度X射線譜儀
zui多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時損耗，又可減小樣品對X射線的吸收，實現(xiàn)高靈敏度的分析長遠所需。